全球CMP設備市場高度集中，主要由美國應用材料（Applied Materials）和日本荏原（Ebara）主導，兩者合計市占率超過85%。CMP設備在先進封裝領域（如硅通孔TSV技術、3D集成）有重要應用 。

         中國化學機械拋光設備行業(yè)國產(chǎn)化逐漸加速，國內(nèi)主要研發(fā)生產(chǎn)單位包括納威科技（深圳）有限公司等。

CMP設備被列入我國《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》，并通過稅收優(yōu)惠（如28nm以下制程企業(yè)十年所得稅免征）直接刺激產(chǎn)業(yè)投入。隨著邏輯芯片進入3nm時代，CMP工藝步驟呈指數(shù)級增長，使得CMP設備在半導體設備投資占比從傳統(tǒng)5%-8%提升至12%以上，成為晶圓廠資本開支的重要組成 。宏觀產(chǎn)能方面，SEMI全球半導體產(chǎn)能將從2020年的2510萬片增至2030年的4450萬片，國內(nèi)晶圓產(chǎn)能將從490萬片增至1410萬片，全球市場份額從20%升至32%。設備投資方面，國內(nèi)自2020年起已連續(xù)六年保持全球第一設備市場規(guī)模，2027年市場份額有望接近30%。隨著制程逼近物理極限，先進封裝的戰(zhàn)略位置凸顯，